激光共聚焦顯微鏡、掃描電鏡和AFM原子力顯微鏡三者的區(qū)別介紹：三者都是點源逐點掃描成像，通過控制掃描驅(qū)動范圍，調(diào)節(jié)放大倍數(shù)，主要區(qū)別：

①極限分辨率不同, 緣于放大信號源的差異激光共聚焦：極限分辨率 150nm.掃描電鏡：20nm~0.8nm.原子力顯微鏡：極限分辨率0.1nm。

②掃描驅(qū)動方式不同激光共聚焦：激光轉(zhuǎn)鏡控制激光掃描范圍和掃描速度。掃描電鏡：電磁線圈控制電子束掃描范圍和掃描速度，AFM原子力顯微鏡：壓電位移傳感器驅(qū)動樣品臺X,Y 方向掃描。

③立體成像的差別激光共聚焦：通過納米精度步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動樣品在Z軸方向逐層成像，軟件將設(shè)定的各層圖像合成清晰立體圖像。掃描電鏡：單幀圖像具有很大景深，但屬于二維圖像，通過立體對技術(shù)可實現(xiàn)三維成像。原子力顯微鏡：成像的本質(zhì)就是測量表面每個像素點的高低，描繪出立體形貌。

④工作環(huán)境差別激光共聚焦和afm原子力顯微鏡可以在大氣環(huán)境中進(jìn)行測試樣品一般掃描電鏡B須在高真空環(huán)境下進(jìn)行測試樣品。

⑤應(yīng)用范圍差別激光共聚焦：幾倍 ~ 幾千倍，樣品制備簡單掃描電鏡 ：幾倍~幾十萬倍，樣品制備稍微復(fù)雜一些，但總體也很簡單。原子力顯微鏡：幾萬倍~幾千萬倍， 要求樣品非常平坦，樣品制備很難。